磁控溅射系统有哪些种类？

磁控溅射系统的工作原理是电子在电场E的作用下飞向衬底的过程中与氩原子发生碰撞，并使它们电离产生Ar正离子和新电子。  Ar离子在电场的作用下加速到阴极靶，并以高能轰击靶表面，从而使靶材料溅射。 磁控溅射镀膜仪厂家带您了解更多信息！

磁控溅射包括许多类型。 每个都有不同的工作原理和应用对象。 但是，它们有一个共同点：磁场和电场之间的相互作用导致电子在目标表面附近盘旋，从而增加了电子撞击氩气产生离子的可能性。 产生的离子在电场的作用下撞击靶表面并溅射靶材料。

磁控反应溅射绝缘子似乎很容易，但实际操作却很困难。 主要问题是该反应不仅发生在零件的表面上，而且发生在阳极，真空腔的表面和目标源的表面上，这会导致灭火，目标源和表面起弧 工件。 德国莱比锡发明的双靶技术很好地解决了这个问题。 原理是一对目标源是彼此的阴极和阳极，因此阳极表面被氧化或氮化。

在450磁控溅射中，由于运动中的电子在磁场中受到洛伦兹力，因此它们的运动轨迹会弯曲甚至产生螺旋运动，并且它们的运动路径会变长，从而增加了与工作气体分子碰撞的次数并产生了等离子体 堆积密度的增加，使得磁控管溅射速率大大提高，并且可以在较低的溅射电压和气压下工作，从而减少了薄膜污染的趋势。

在机械加工工业中，表面功能膜，超硬膜和自润滑膜的表面沉积技术自问世以来发展迅速，可以提高表面硬度，复合韧性，耐磨性和高温化学稳定性。 延长涂层产品的寿命。

文章内容来源于网络，如有问题请和我联系删除！