你知道磁控溅射镀膜系统要跟哪些行业有关联吗？

在镀膜行业中，磁控溅射镀膜仪是地位相当特殊的一种设备。其出现的时候大幅度晚于其他类型的镀膜设备，诸如真空镀膜机、离子镀膜机的规划出产时刻都早于磁控溅射镀膜设备。

但在世纪的职业使用之中，磁控溅射镀膜设备的使用规模却并不小于上述两者，甚至在某些特定设备的镀膜需求中是超越这二者的。

例如在手机外壳的镀膜中，磁控溅射镀膜设备的受欢迎程度是远大于真空镀膜的。    

原因在于磁控溅射镀膜设备的镀膜方法出产出来的手机壳往往在外观上会比相同材料的真空镀膜更加亮，并且质感也远优于后者。

对于手机壳这种外表漂亮度需求较高的产品来说，更加漂亮也就意味着更好的市场。

磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。

溅射过程中涉及到复杂的散射过程和多种传递过程：入射粒子与靶材原子发生弹性碰撞，入射粒子的一部分动能会传给靶材原子。

溅射镀膜就是在真空中利用荷能粒子轰击靶表面，使被轰击出的粒子沉积在基片上的技术。利用低压惰性气体辉光放电来产生入射离子。

各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。