浅析磁控溅射镀膜过程！

溅射产额随入射离子能量变化的简单示意图，简称溅射曲线。磁控溅射镀膜仪厂家带你了解更多！

颜色可以做到比较深，耐磨性能也很好，但其色调不够纯正，总是黑中略带黄色。并且由于钛的熔点相对较低，在溅射时易出现大的颗粒，使其光令度不易得到改善。

溅射镀膜过程主要是将欲沉积成薄膜的材料制成靶材，固定在溅射沉积系统的阴极上，待沉积薄膜的基片放在正对靶面的阳极上。溅射系统抽至高真空后充入氩气等，在阴极和阳极之间加载高压，阴阳极之间会产生低压辉光放电。

磁控溅射镀膜技术主要用于塑料、陶瓷、玻璃、硅片等制品来沉积金属或化合物薄膜从而获得光亮、美观、经济的塑料、陶瓷表面金属化制品。

磁控溅射不仅应用于科研及工业领域，已延伸到许多日常生活用品，主要应用在化学气相沉积制膜困难的薄膜制备。

磁控溅射镀膜技术由于其显著的优点已经成为制备薄膜的主要技术之一。非平衡磁控溅射改善了等离子体区域的分布，显著提高了薄膜的质量。

磁控溅射技术已经在我国的建材、装饰、光学、防腐蚀、工磨具强化等领域比较广泛的应用,利用磁控溅射技术进行光电、光热、磁学、超导、介质、催化等功能薄膜制备是当前研究的热点。