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设备用途：JGP-560型双室磁控溅射系统用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。设备组成：主要由主溅射真空室、磁控溅射靶、基
