单室离子束镀膜

设备用途：

单室离子束镀膜设备系统为高真空多功能离子束沉积系统， 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、 合金、 化合物、 半导体、 介质复合膜等。 广泛应用于大专院校、 科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

设备组成：

系统主要由沉积室、 考夫曼溅射离子源、 考夫曼清洗辅助离子源、 样品台、 样品加热装置、膜厚监测系统、 泵抽系统、 真空测量系统、 气路系统、 电控系统等组成。

技术指标：

1、极限真空度：≤8.0×10-5Pa (经烘烤除气后)；

2、系统真空检漏漏率：≤5.0×10-8Pa.L/S；停机12小时≤5Pa.

3、系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，45分钟可达到6.6×10-4Pa；

4、系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、安装机台及电控系统等部分组成。