离子束溅射系统常见的离子镀类型及特点

真空离子束溅射系统是真空镀膜设备的一种，它指的是一类需要在一定真空环境下进行的镀膜。离子镀膜机的原理和真空镀膜机的类似，这里就不多加赘述了。今天，给大家简单介绍下离子束溅射系统较常使用的离子镀的类型及特点。

1、电阻加热或电子束加热蒸发源

①直流放电二极型

特点：绕射性好，附着性好，基板温度易上升，膜结构及形貌差，若用电子束加热必须用差压板。

②多阴极型

特点：采用低能电子离化效率高，膜层质量可控制。

③射频放电离子镀

特点：不纯气体少，成膜好，化合物成膜更好。匹配较困难。

2、电子束加热蒸发源

①活性反应蒸镀

特点：蒸镀效率高，能获得三氧化二铝、TiN等薄膜。

②增强的ARE型

特点：易离化，基板所需功率和放电功率能独立调节，膜层质量、厚度都容易控制。

③低压等离子镀

特点：结构简单能获得TiC、TiN等化合物镀层。

④电场蒸发

特点：带电场的真空蒸镀，镀层质量好。

3、等离子电子束

空心阴极放电离子镀

特点：离比效率高，电子束斑较大，金属膜、介质膜、化合物膜都能镀。